中国刻蚀机装备打破国外垄断 首创技术引领全球

中国刻蚀机装备打破国外垄断 首创技术引领全球。在《对话》节目中，中微半导体设备（上海）股份有限公司董事长兼总经理尹志尧提到，中微公司之所以能在泛林和应用材料垄断的刻蚀机装备市场中取得突破，主要归功于其首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术。这项技术在三年后被国际三大设备公司全部效仿，目前全球100%的CCP刻蚀机都采用了这一技术。此外，中微公司还率先推出了双台机设计，这种设计能够节省30%以上的材料成本，并且售价远低于国际供应商，性能也更加优越。